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中国半導体ナノインプリントはASML代替となるか、歩留まり未開示

中国PRINANOがDUVを使わない光半導体の8インチ量産検証を発表した。ナノインプリントの低コスト性は魅力だが、歩留まり、欠陥密度、出荷量、量産時期は未開示。CanonやASMLの公開情報、米輸出規制、光回路の構造要件を基に、ASML代替論の実力と限界、投資家と技術者が確認すべき検証指標を具体的に解説。